刻线衍射光栅，UV反射式

“刻线衍射光栅，UV反射式”参数说明
型号：	Qx-UV-gl	规格：	50 mm X 50 mm X 9.5
商标：	一博 包装：	硬塑
闪耀角：	8.6	刻线数：	300-1200
“刻线衍射光栅，UV反射式”详细介绍
刻线衍射光栅，UV反射式基本介绍
刻线衍射光栅，UV反射式QXKJ提供用于300 nm左右紫外区域的刻线衍射光栅。这些光栅在300 nm闪耀波长下具有相对尖锐的效率峰值，并且由刻线的基底材料生产。
刻线衍射光栅，UV反射式性能特点
特性
· 闪耀波长300 nm

· 在闪耀波长下光栅效率高达60%到80%

· 低鬼影：小于主反射的0.5%

· 反射铝膜

· 钠钙玻璃基底，300到1200刻线/mm

· 使用刻线的基底材料生产

刻线衍射光栅，UV反射式技术参数
Dimensions (W x H x D)

Blaze

Wavelength

Grooves/mm

Blaze Angle

Dispersion

25 mm x 25 mm x 6 mm

300 nm

300

2° 34'

3.33 nm/mrad

50 mm x 50 mm x 9.5 mm

600

5° 9'

1.67 nm/mrad

12.7 mm x 12.7 mm x 6 mm

1200

10° 22'

0.82 nm/mrad

刻线衍射光栅，UV反射式使用说明
我们提供不同闪耀角的光栅，满足需要重点考虑效率的多种光谱学和分析应用。需要更多信息请点击上方光栅教程标签。我们还提供全息光栅，它们不会产生鬼影效应，但是效率 低。

请注意，这些光栅的反射铝膜是 的，而且没有保护镀膜。但是可以定制MgF2或金膜来保护光栅的铝膜表面。金膜在红外波段的性能 ，而MgF2膜提供 保护性；详情请咨询技术支持

刻线衍射光栅，UV反射式采购须知
注意
光栅很容易被潮湿、指纹、气溶胶或任意摩擦材料的轻微接触而损伤。光栅只能在必要时才拿取，而且只能通过边缘夹持。应佩戴橡胶手套或类似的防护套，以防止手指上的油污接触光栅表面。清洁时只能使用净化的干燥空气或氮 扫光栅，其它任何操作都是不允许的。溶剂很可能会损伤光栅表面。